第二百四十二章 榜单
公司现在研发的半导体设备，就是第三代光刻机。
在这里，有必要介绍一下光刻机的发展历程。
首先是光刻机的代际划分，其实是按光源算的，波长越短越先进。第一二光刻机分别是接触、接近式光刻机，光源是不同类型的汞灯，但一个产品不良率高,一个要用到介质容易影响成像，都不太理想。
直到第三代，光源改成了氟化氪准分子激光，工作方式变成了扫描投影光刻，从名字也能看出差别。一旦完成研发，制程最低将缩小到一百八十纳米水平。
而第四代光源则是氟化氩准分子激光,工作方式是步进扫描投影光刻跟浸没式步进扫描,前者制程最低达到65纳米，后者达到22纳米。
而第五代,就是后来熟知的极紫外光刻机，也就是三十年后卡脖子的那款。
目前，尼康、佳能以及ASML已经推出了第三代光刻机，第四代研发中。
而徐柠他们的第三代光刻机，进展比原本计划的更快，预计明年春天就能完成研发，第四代则在预研中。
话说，到了第三代其实就是分水岭了，因为是全新技术，难度直线上升，能完成研发的全世界一只手都能数过来，现在又多了徐柠这边。
从这名单也能看出来，玩家正在急剧减少，没办法，光刻机这东西，风险大，而且极其烧钱，重点是,在不垄断的前提下赚的其实并不是很多。
风险大，是技术路线选择的问题，这东西可不是一条线往前走就可以了，而是有很多岔路，谁也不知道哪个能成。像第四代光刻机中的浸没式，尼康跟佳能就是错过了这個技术方向，结果花巨资研发出产品后跟ASML的浸没式一对比才发现，完了！差的太多了。
技不如人，市场自然也就没了。投资收不回来，而且眼看着追不上人家了，再投钱也是无用功，那就只能放弃呗。
至此之后，ASML一家独大。其实之所以有这个结果，也跟他们的经营方式有关系，他们很像一个众筹公司，是整个产业上下游的大量公司合作的结果。
当初研发极紫外光刻机，AS